中頻磁控濺射鍍膜設備,眼鏡框鍍膜設備,眼鏡鍍膜設備。中頻磁控濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是

　　1.克服了陽極消失現象

　　2.減弱或消除靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。

　　我公司研發了平面靶,圓柱靶,孿生靶,對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于眼鏡、表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

　　眼鏡框鍍膜設備,眼鏡鍍膜設備,高真空蒸發鍍膜設備真空蒸發鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。

　　該設備具有結構合理、抽速大、工作周期短、生產效率高、操作方便,能耗低、工作穩定,且膜層均勻、成膜質量好等優點。該設備主要廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業。

　　可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

　　可鍍基材表面狀態:電鍍亮面、啞光面(半啞、全啞)、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等。

　　本公司可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。